网站首页
购物车
用户中心
全部产品分类
服务热线
4001027270
GNAD系列高精度研磨抛光设备是MCF公司研制的覆盖半导体材料，光电材料等应用领域的精密磨抛设备。主要适用的材料包括：硅，砷化镓，铌酸锂，光纤，碳化硅，蓝宝石，碲锌镉等多种材料。
设备结构及功能
GNAD系列精密研磨抛光机包括主机，远程操控系统，夹具，真空系统，填料系统，研磨抛光盘等。
GNAD系列精密研磨抛光机，主机及所有的零备件均采用高防腐蚀材料，整机防腐，适用于多种半导体材料的化学机械研磨抛光。
设备的功能参数，可由独立的远程操控系统控制。远程操控系统可根据用户工艺等具体要求选择无线或有线方式控制主机。控制系统可根据用户工艺要求选择独立于设备主机的距离，这个配置既提高了化学磨抛工艺过程中对操作人员健康安全的保护等级，更是避免了磨抛过程中产生的磨抛液废料腐蚀操作控制系统。通过独立的远程控制系统也可实现多机联控，通过一个控制终端实现对多台磨抛机的控制，也方便了工艺过程中更改工艺参数的操作，更实现多道工艺同时精准数控，大大提高了工作效率及工艺精度。
夹具可在线监测样品的去除量，精度可实现1ｕｍ．并可根据用户工艺要求定制各种角度附件等非标夹具附件，实现对非标形状样品的抛光及角度抛光。
设备可支持多通道进料系统同时工作，实现化学研磨抛光等各种复杂的工艺。
设备具有实时在线监测工艺过程中磨抛盘面形的功能，并可实时在线修整磨抛盘的面型。盘面形控制精度1um。
GNAD系列磨抛机具有实时在线监控磨抛盘温度变化和冷却功能。盘温接近预设温度警戒值，设备会自动启动冷却功能，保持磨抛盘在工艺要求的温度范围内运转工作。
GNAD系列磨抛设备具有设备定时功能，可连续工作运行时间１０小时。同时，设备具有预设工作时间功能，预设时间达到，设备自动停机，大大提升了设备的自动化功能的同时也极大提升了工艺标准化操作。
设备具有自动清洗功能。根据工艺要求可实时在线冲洗磨抛工作区域。流速，清洗时间等参数可精确数控。
设备特点
● 独立远程操控系统，强腐蚀化学抛光过程实现人机分离远程操控。
●可在一个控制终端实现多机联控
● 在线实时磨抛盘温控及冷却功能
● 多通道进料系统
● 磨抛盘自动冲洗功能
根据用户技术要求，我们将为用户开发定制专属工艺。更多信息，请与我们联络！
更多信息，请联络MCF中国！www.mcfsens.com
半导体、电子行业人士|相聚在这里
长按识别上边二维码关注portant; word-wrap: break-word !important;">微信公众账号
商家资料
提示：注册 查看!
