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光刻(photoetching or lithography)是通过一系列生产步骤，将晶圆表面薄膜的特定部分除去的工艺。在此之后，晶圆表面会留下带有微图形结构的薄膜。通过光刻工艺过程，最终在晶圆上保留的是特征图形部分。
公司提供电子束光刻、激光直写、步进式光刻、接触式光刻、硬掩膜光刻等光刻技术，线宽最小可达10nm，多种光刻结合的先进光刻理念，实现了不同尺寸的光刻需求。
服务流程：
客户提出功能要求；
设计工程师进行结构、尺寸和工艺设计；
确认设计方案、制备周期和价格；
开始制备；
交付产品。
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