温精度高。工艺稳定时间最大可设置到9999 秒，一般推荐1-600 秒。
2. 相对于传统的炉管式退火系统，其独特的水冷腔体设计、先进的温度控制技术以及Allwin21 研发的
RTAPRO 软件控制系统，确保了优越的温度均匀性。
3. 工艺时，wafer 放置在独立的石英腔体内的石英载盘上，通过软件操作手动或自动加热模式控制上下两
排的四组灯管对wafer 进行加热。
4. RTAPRO 软件可以全方位控制、监控AccuThermo 快速退火系统，允许工程师自由创建、编辑工艺菜单,
5. AccuThermo 快速退火系统的应用:
离子注入激活；多晶硅退火；氧化回流；硅化物形成；欧姆接触合金
氧化物、氮化物生长
砷化镓、磷化铟工艺
二、设备特点：
1. 水冷以及镀金腔体设计在过去30 年里已得到业内认可
2. 上下两排灯管加热保证了优越的温度均匀性
3. 采用了闭环温度控制设计
4. 实时显示温度曲线，适合特殊工艺需要
5. 传统技术无法实现的快速升温、降温速率
6. 稳定的片间工艺重复性
7. 隔离的石英腔体结构避免了外部污染
8. 体积小、能耗少
9. 集所有控制为一体的操作软件
○ 图形用户界面
○ 实时工艺过程数据采集
○ 实时工艺曲线
○ 工艺数据分析
○ 工艺数据及菜单存储于计算机硬盘
○ 多步骤的工艺菜单编辑
○ 工艺菜单编辑操作简单
○ 系统诊断功能
○ 腔体校准功能易于实现温度平滑控制
○ 气路流量软件校准操作简单、方便
○ TC 通道软件校准操作简单、方便
○ 功率监测功能，保证良好的工艺重复性
○ 丰富的硬件诊断功能，方便设备维护及维修
○ 软件“看门狗”功能，可以及时的切断灯管电源，有效防止温度失控
10. 关于AccuThermo 快速退火系统加热、冷却、温度测量模块的主要特点如下：
○ 以高强度可见光加热晶片，短时间内可升到400-800℃，温度控制精确。
○ 卤素灯和金属腔体冷壁设计满足快速升温、降温需求
○ 软件系统实时数据采集、分析功能满足特殊工艺需求
○ 冷却氮气给灯管和石英腔体降温
○ MFC 控制气体流量通入石英腔体用来吹扫或反应