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    扩散炉 氧化炉 科研炉 实验炉定制

    应用于半导体行业:

    半导体加工设备-炉类设备-管式炉

    产品品牌

    CL-扩散炉

    规格型号:

    定制

    发货期限:

    60天

    库       存:

    99

    产       地:

    中国-山东省

    数       量:

    减少 增加
    起       批 1-3件 4-5件 5件以上
    价       格 185000.00 178000.00 168000.00
    交易保障 担保交易 网银支付

    客服电话:4006988696

    品牌:CL-扩散炉

    型号:定制

    所属系列:半导体加工设备-炉类设备-管式炉

     
    卧式扩散炉--扩散炉

    扩散炉--高温扩散炉,卧式扩散炉,晨立简单介绍:

     

    扩散炉--高温扩散炉,卧式扩散炉,晨立

    设备用途:用于大规模集成电路、电力电子、光    电器件、光导纤维等行业的氧化、扩散、烧结、合金等工艺。

    设备特点:单元组合方式。根据工艺的不同,可以在主机的基础上配气源柜、超净工作台、悬臂推拉舟等。    
    主要技术指标:
    ★ 炉管数:1~4管
    ★ 配工艺管口径:Φ90~360 mm (3~12英寸)
    ★ 恒温区长度: 760~1000 mm±1.0℃ (300~800℃)  760~1000 mm±0.5℃(800~1280℃)
    ★ 单点稳定性: ±1.0℃/24h (300~800℃)    ±0.5℃/24h (800~1280℃)
    ★ 气源路数:    ≤7路,可配恒温源瓶、氢氧合成点火器
    ★ 气体控制:    浮子/质量流量计
    ★ 悬臂舟参数: 速度:    20~1000 mm/min    最大行程:2000 mm    定位精度:±1 mm    最大载荷:17 Kg
    ★ 超净工作台: 净化等级:100级(万级厂房)
    噪音:    ≤62dB(A)
    振动:    ≤3μm
    晨立最新扩散炉设备新鲜出炉,技术和质量已达国际水平,受到半导体设备制造企业和半导体行业高度关注.可完全替代国外同规格高端产品满足不同工艺的要求.

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