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原标题：数字游戏不掩性能提升！三星推出“7nm”和“11nm”半导体工艺
【PConline 资讯】随着技术的进步，芯片这东西，体积越小，也代表着性能越好。而讲到芯片，三星 这些年受惠于高通骁龙芯片、AMD Ryzen/Vega/Polaris的成功，三星的代工生意风生水起、日进斗金，二季度收入超越Intel，也使其成为了全球第一大半导体公司。
作为全球第一大半导体公司，三星制程工艺也走在行业的前列。而就在今天，三星宣布，新加入11nm LPP工艺！这明显是三星对打台积电12nm FinFET推出的的芯片，只不过，不论是三星的11nm，还是台积电的12nm，却都只是两家擅自混乱地给制程命名（三星10nm=Intel 14nm）。
三星11nm（改良后的14nm LPP马甲）芯片性能提升15%，单位面积功耗降低了10%。三星表示，10nm用于旗舰手机，11nm用于中高端，形成差异化，预计2018年上半年在市场投放。
与此同时，三星也成为了市场上最先确认7nm的企业，其7nm LPP定于2018下半年量产，采用EUV极紫外光刻技术。EUV虽然困难重重，但ASML已经开始出货定型的光刻机。三星也表示，从2014年开始，基于EUV处理了200000片晶圆，目前在256Mb SRAM（静态随机存储器）良率已经达到了80%。
关于11nm和7nm更进一步的细节，三星定于9月15日在东京举办的半导体会议上揭示，未来的技术路线图也会更新。商家资料
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