LPCVD

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品牌：	上海微世半导体
LTO：	SIPOS
SI3N4：	TEOS
POLY：	DPOLY
单价：	面议
起订：
供货总量：
发货期限：	自买家付款之日起 3 天内发货
所在地：	全国
有效期至：	长期有效
最后更新：	2025-04-09 13:27
浏览次数：	167

公司基本资料信息

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地区全国

详细说明

MSW-LPCVD system(低压力化学气相沉积系统)。设备主要部件全部选用国际主流知名品牌，适用于IC芯片制造、可控硅芯片制造、二三极管芯片制造、整流桥芯片制造、太阳能电池芯片制造等各种芯片造行业。涵盖工艺包括：LTO（二氧化硅）、PSG（磷硅玻璃）、SIPOS（半绝缘多晶硅）、POLY（多晶硅）、SI3N4（氮化硅）、TEOS等。设备成熟稳定安全可靠，可配套提供相应工艺技术支持。

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