接触式光刻
发表于:2020-04-14 作者:ioptee01 关注度:475
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接触式曝光系统能够完成平面图形及三维图形转移光刻,该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构,然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。
设备型号:MA6-Gen4为德国SUSS设备,设备性能强大,可以曝光2寸、4寸、6寸常规晶圆片以及6寸以下非常规产品;
最小分辨能力可以达到0.8um的细小线宽;可以实现芯片多层套刻功能,套刻精度可以达到最小0.5um;
设备灵活性较强,可以用于实验研发及批量生产使用。