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纳米压印光刻技术（nano-imprintlithography,nil）是将一具有纳米图案的模版以机械力（高温、高压）在涂有高分子材料的硅基板上等比例压印复制纳米图案，其加工分辨力只与模版图案的尺寸有关，而不受光学光刻的最短曝光波长的物理限制。由于省去了光学光刻掩模版和使用光学成像设备的成本，因此NIL技术具有低成本、高产出的经济优势。此外，NIL技术可应用的范围相当广泛，涵盖纳米电子元件、生物或化学的硅片实验室、微流道装置（微混合器、微反应器），超高存储密度磁盘、微光学元件等领域。
我司提供定制硅基硬模板和镍基软模板，模板面积、宽度/直径、周期、高度/深度等具体参数请与我司联系咨询。
服务流程：
客户提出功能要求；
设计工程师进行结构、尺寸和工艺设计；
确认设计方案、制备周期和价格；
开始制备；
交付产品。
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