纯化学抛光工艺
发表于：2015-02-24 作者：admin 关注度：493
红外探测器是目前应用最广的红外探测器之一,一直以来在红外探测领域发挥着十分重要的作用。随着HgCdTe红外探测器性能指标的不断提高,对碲镉汞器件的制备工艺要求也越来越高。其中碲镉汞材料的抛光作为整个器件制备流程的开始,抛光效果会直接影响最终器件的性能。
通常采用的碲镉汞材料抛光工艺为纯化学机械抛光,抛光后会在碲镉汞表面造成一定深度的损伤,之后的溴-乙醇腐蚀工艺只能减轻部分损伤,并且所得的表面凹凸不平,表面形态较差,影响最终器件的性能。
采用溴-甲醇抛光工艺来取代传统的溴-乙醇腐蚀工艺,以降低直至消除抛光工艺所造成的损伤,经过Ar+刻蚀呈现材料位错方法以及对材料进行XRD测试,结果表明经过溴-甲醇抛光工艺的HgCdTe材料中的损伤大大减小了,达到了预期效果。
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