半导体加工设备
半导体纯水设备
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半导体纯水设备,EDI设备一般以逆渗透(RO)纯水作为EDI给水。RO出水电导率一般是20-1μS/cm25)。EDI出水电阻率可以高达15 MΩ.cm(25)以上,但是根据去离子水用途和系统配置设置,EDI纯水适用于制备电阻率要求在5-18.2MΩ.cm(25)的纯水
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公司:深圳汇泉兴纯水设备有限公司
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