基质辅助脉冲激光蒸发(MAPLE)是PLD的一种变体。这是由NRL集团引入的，以促进某些功能有机材料的薄膜沉积。基于UV (5-6 eV)的传统PLD技术可能不适用于这种情况，因为光化学反应可能会恶化有机分子、聚合物等的功能。在MAPLE中，通过将待沉积的有机物(或聚合物)与吸收激光波长的溶剂(基质)混合来制备特殊的靶。除了光学吸收外，在沉积条件下的高蒸气压是基质的先决条件。然后用液氮冷却液体目标物，使其冻结为固体。激光辐射主要被目标的高挥发性、冷冻的溶剂(基质)分子吸收，这些分子随后从固体目标中脱离，捕获和带走感兴趣的有机分子。在它们向基片传输的过程中，高挥发性的基质分子被抽走，将有机分子输送到基片上沉积薄膜。

特点

独立的MAPLE PLD系统。

有机和聚合物薄膜的沉积。

在同一室的附加沉积源(可选):脉冲电子沉积(PED)、射频/直流溅射和直流离子源。

负载锁定基底阶段。

与XPS分析系统集成，晶片就地从PLD系统转移到分析系统

1. PLD真空室尺寸：12 " / 18”直径(Pioneer 120-Advanced/ Pioneer 180 Models).

2. 衬底尺寸：最大直径2“ 和/或多种1厘米x1厘米的样品。

3. 衬底加热：最高500℃，拥有可编程的加热器。

4. 基底旋转：20 RPM。软件控制。

5. 目标阶段：液氮冷却；单目标阶段为标准；多个目标(可选)

6. 真空装夹：衬底负载制动

7. 工业废气：按要求处理气体。50 - 100 SCCM mfc电池

8. 软件：Windows 7/Labview 2013。

应用领域

脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition）是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材，生成与靶材组成相同的薄膜。PLD 的独特之处是能量源（脉冲激光）位于真空室的外面。这样，在材料合成时，工作压力的动态范围很宽，达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度，可以合成一系列具有独特功能的纳米结构和纳米颗粒。另外，PLD 是一种“ 数字” 技术，在纳米尺度上进行工艺控制（Å/pulse）。

• Neocera 在PLD 设备与工艺开发方面具有不可超越的经验
• Pioneer 系列PLD 系统是全球研发领域最为广泛使用的商业化系统
• Neocera 不仅为客户提供最基本的PLD 系统，也提供完整的PLD 实验室交钥匙方案