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氮化钛靶材TiN磁控溅射靶材
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品牌 晶迈中科
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 科研实验专用氮化钛靶材TiN磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料
产品介绍
       氮化钛(TiN)熔点:2950℃,密度:5.43-5.44g/cm³,莫氏硬度8-9,抗热冲击性好。其熔点比大多数过渡金属氮化物的熔点高,而密度却比大多数金属氮化物低,因此是一种很有特色的耐热材料。在高温下不与铁、铬、钙和镁等金属反应,TiN坩埚在CO与N2气氛下也不与酸性渣和碱性渣起作用,因此TiN坩埚是研究刚液与一些元素相互作用的优良容器。TiN有着诱人的金黄色、熔点高、硬度大、化学稳定性好、与金属的润湿小的结构材料、并具有较高的导电性和超导性
,可应用于高温结构材料和超导材料。
产品参数
中文名 氮化钛     化学式 TiN
熔点 2950℃       密度 5.43g/cm3
纯度 99.9%
中科
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