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LCVD激光化学沉积就是用激光束的光子能量激发和促进化学反应的薄膜沉积方法。激光化学气相沉积
的过程是激光分子与反应气分子或衬材表面分子相互作用的过程。
LCVD激光化学沉积就是用激光束的光子能量激发和促进化学反应的薄膜沉积方法。激光化学气相沉积
的过程是激光分子与反应气分子或衬材表面分子相互作用的过程。
SEMISHARE LCVD系列激光修复系统
1. LCVD工作原理：用金属材料连接在各种不同的制程材质上。修补断线，通孔以减少线缺陷，进而提高良率。
激光CUT工作原理：利用激光精密切割，熔接功能，修复短路，断线，以减少线缺陷，进而提高良率。
成膜规格：
材质：Cr,Mo,W,Al
最小线宽：2 micron
特点：
稳定的修复结果
功能丰富的软件
超高的修复精度
可以编辑修复形状
0.1um精度的直线电机平台
自动AOI定位
极小的损伤
可做多工位设计
1um的激光精度
自动上下片
LCVD激光化学沉积就是用激光束的光子能量激发和促进化学反应的薄膜沉积方法。激光化学气相沉积
的过程是激光分子与反应气分子或衬材表面分子相互作用的过程。
LCVD激光化学沉积就是用激光束的光子能量激发和促进化学反应的薄膜沉积方法。激光化学气相沉积
的过程是激光分子与反应气分子或衬材表面分子相互作用的过程。
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1. LCVD工作原理：用金属材料连接在各种不同的制程材质上。修补断线，通孔以减少线缺陷，进而提高良率。
激光CUT工作原理：利用激光精密切割，熔接功能，修复短路，断线，以减少线缺陷，进而提高良率。
成膜规格：
材质：Cr,Mo,W,Al
最小线宽：2 micron
特点：
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