PECVD SI 500 PPD等离子沉积机

过程的灵活性

PECVD沉积工具SI 500 PPD的使用方便沉淀SiO2、SiNx、SiOxNy的标准工艺，

a- si在室温到350℃之间。

真空loadlock SI 500 PPD的特点是真空加载锁定和干燥. 抽油机适用于无油、高产量和

沉积过程的清洁度。

SENTECH控制软件

用户友好的强大软件包括模拟GUI、参数窗口、食谱编辑器、数据日志和用户管理。

SI 500 PPD是一种先进的等离子体增强化学气相沉积介质薄膜的工具，

硅、碳化硅和其他材料。它是基于平面电容耦合等离子体源，真空加载锁定，

控温基片电极，可选配低频混频，全控无油真空系统采用先进的森泰克控制软件，采用远程现场总线技术，具有非常友好的通用用户界面用于操作SI 500 PPD的用户界面。

从直径200毫米的晶圆片到装载在载体上的各种基板，都可以在SI 500 PPD等离子体沉积仪。单片【真空负荷锁定】保证了稳定的工艺条件和可以方便地切换进程。

 

SI 500 PPD等离子体增强沉积工具被配置成在a中沉积SiO2、SiNx、SiONx和a- SI薄膜

温度范围从室温到350℃。解决方案可用于TEOS, SiC，以及其他具有液态或气态前体的物质。SI 500 PPD适用于介质的沉积用于蚀刻掩膜、薄膜、钝化膜、波导等的薄膜和非晶态硅。

SENTECH提供不同水平的自动化，从真空盒加载到一个过程室到六个端口集群，不同的沉积和蚀刻模块，以高灵活性或高吞吐量为目标。SI 500 PPD也可以作为集群配置上的进程模块。

 

PECVD SI 500 PPD

PECVD等离子体沉积工具与真空loadlock

高达200毫米晶圆

衬底温度从RT到350℃

低应力薄膜可选低频混频

TEOS和其他液体前驱体的来源

干式抽油机