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ST-1500i投影光刻机
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品牌 国产-中科院
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ST-1500i投影光刻机

ST-1500i 投影光刻机
ST-1500i 投影光刻机ST-1500i 投影光刻机

主要技术指标:

曝光场面积:10mm×10mm

分辨力:0.8-1μm(胶厚2μm的正胶);

套刻精度:1μm

物镜倍率:1:10

掩模尺寸:4 inch、5 inch

基片尺寸:2 inch、3 inch、4 inch、6 inch

工件台运动范围:X:150mm、 Y:150mm;

工件台运动定位精度:±0.65μm;


技术特点:

采用CCD检焦系统实现整场调平、自动逐场调焦或自动选场调焦曝光。10倍缩小投影光刻物镜成像,一次曝光面积约10mm×10mm 采用专利技术——积木错位蝇眼透镜实现均明,进口精密光栅、进口电机、进口导轨、进口丝杠实现精确工件定位和曝光拼接,可适应2英寸、3英寸、4英寸、6英寸基片。具备对准和套刻功能,操作方便、实用性强。

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