977 8” Wafer Cleaning System977 8英寸 晶圆清洗系统——977清洗机

Standard Features: 基本配置

Supporting up to 8"round substrates 最大支持到8吋的工作台

Atomizing cleaning 支持二流体清洗

Programmable recipes  可编程菜单

Storage capacity: 8 recipes  存储容量，可以存储8种

Internal vacuum generator 内含真空发生器

Spinner velocity range:  200-3,000 RPM 工作台转速可控，

200-3000转/分钟

Nitrogen and water adjustable pressure gages 二氧化氮和水

可调压力可调检测

Process monitoring and display 工作可控和展示

Automatic covering/opening  自动开合

Safety interlock 内含安全锁

Light tower

Dimensions (WxDxH): 410x625X946 mm 尺寸