单晶圆兆声清洗机

兆声晶圆清洗机：
First-Nano 兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及先进的兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了专利的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。

SWC-4000兆声晶圆清洗机应用：

• 带图案或不带图案的掩模版和晶圆片
• Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗
• CMP处理后的晶圆片清洗
• 晶圆框架上的切粒芯片清洗
• 等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗
• 带保护膜的分划版清洗
• 掩模版空白部位或接触部位清洗
• X射线及极紫外掩模版清洗
• 光学镜头清洗
• ITO涂覆的显示面板清洗
• 兆声辅助的剥离工艺

SWC-4000兆声晶圆清洗机的特点：

• 支持12"直径的圆片或9"x9"方片
• 独立系统
• 无损兆声,试剂，毛刷清洗及旋转甩干
• 微处理机自动控制
• 化学试剂滴胶单元
• 溶剂与酸分离排废
• 热氮
• 30"D x 26"W 的占地面积

SWC-4000兆声晶圆清洗机选配项：

• 掩模板或晶圆片夹具
• 臭氧清洗
• PVA软毛刷清洗
• 高压DI清洗
• 氮气离子发生器