类  型

单片式

适 用 领 域

半导体、太阳能、液晶、MEMS等

清 洗 方 式

2英寸——12英寸

设备稳定性

1、≥0.2um颗粒少于10颗

2、金属附着量:<3E10 atoms/ cm²

3、纯水消耗量：1L/min/片

4、蚀刻均一性良好（SiO₂氧化膜被稀释HF处理）：≤2%

5、干燥时间：≤20S

6、药液回收率：＞95%

单片式优点

1、单片处理时间短（相较于槽式清洗机）

2、节约成本（药液循环利用，消耗量远低于槽式）

3、良品率高

4、有效避免边缘再附着

5、立体层叠式结构，占地面积小