·高方阻：140Ω

·高均匀性：≤±4％，±2％，±2％（片内，片间，批间）

·大产能：1000片/舟(DS-300E)，1200片/舟(DS-320)，2.38mm间距

设备名称：管式扩散氧化退火炉（低压管式高温扩散炉）

设备型号：DOA-300/DOA-320

设备用途：主要用于晶体硅太阳能电池制造中硅片的掺杂形成PN结。

工艺流程：

石英舟及硅片准备→插片→上料→选择工艺运行→进舟→抽真空→升温稳定→通氧→通源→推进→恒温→出舟→下舟冷却→测试→卸片      

 技术特点：

· MES控制功能。

· 低压扩散功能。

· 防撞舟技术。

· 源压稳定技术。

· 作适应性变更，可兼容硼扩散工艺技术。

· 高方阻技术解决方案。

· 自动装卸舟。

· 具备侧出舟功能（可选）。

· 智能化控制。

· 匹配S.C智能化生产管理系统。

设备参数