SVT Associates' NorthStar™ 原子层沉积(ALD)系统

工作原理：

一个ALD 周期 由2个不同的表面化学反应组成， 反应可自我终结，所以只有一个原子层的薄膜会在衬地的表面上生长。在一层接一层的生长过程中，薄膜可以高度保型和厚度均匀。而薄膜的厚度可以在纳米范围内由反应周期的数量来控制。

特点：

• 最多8 个前趋体源
• 热壁沉积腔体
• 能够与其他沉积系统和计量工具连接
• 自动化系统 /软件 - RoboALD™

应用范围：

• 高k电介质
• 纳米涂层
• 表面修饰层
• 器件封装
• MEMS
• 光子晶体