脉冲激光分子束外延 (Pulsed Laser MBE)

工作原理：

高功率脉冲激光束聚焦在腔体并轰击用来沉积的靶材。吸收了高能量的激光，靶材会被激发，蒸发，溅射和形成等离子体。最后在存底上沉积成薄膜。这个过程可在超高真空或存在背景气体下（常用氧气）发生。

特点：

• 超高真空环境（
• 6个可旋转 的PLD靶
• 高功率准分子激光
• 全计算机控制与数据记录
• 多个沉积源
• 先进的原位样品温度和膜厚监控
• 定制的组合泵

应用范围：

• 氧化物半导体
• 高Tc超导体
• 光学晶体
• 电光薄膜
• 铁电和铁磁材料