分子束外延系统 (MBE system)

工作原理：

通过不同的能量源提供高能量给靶材（如蒸镀源，RF等离子源，电子束蒸发源，臭氧传送系统等）。靶材会被加热和蒸发。被蒸发的材料会沈积在衬地上形成薄膜。由于 MBE在超高真空（UHV）（10^-9 torr）进行，沉积速率可以放慢，使得薄膜可外延生长。

特点：

• 多种沉积源和测量工具的选择
• 多个沉积源
• 超高真空环境（-10torr基准压力）
• 6个可旋转的 PLD靶
• 全计算机控制与数据记录
• 先进的原位样品温度和膜厚监控
• 定制的组合泵

应用范围：

• III - V、II - VI、II -氧化物、III ​​- 氮化物，硅、锗、金属、电介质及其它材料
• 半导体
• 光电子学
• 光伏
• 磁应用