多弧离子镀辅助沉积MT3-PA 离子复合镀膜设备 博锐恒电子

多弧离子镀辅助沉积优点：

1、从阴极直接产生等离子体，不用熔池，阴极靶可根据工件形状在任意方向布置，使夹具大为简化。

2、入射粒子能量高，膜的致密度高，强度和耐久性好，附着强度好。

3、离化率高，一般可达60%~80%。

4、从应用的角度讲，其突出优点是蒸镀速率快。

我公司研发的离子复合镀膜设备具备：

1、先进的离子注入技术；

2、电弧离子镀技术和工艺；