手动硅片腐蚀清洗机

清洗对象：该设备专业用于太阳能、光伏行业的单晶、多晶硅片的清洗及抛光；

清洗介质：纯水、混酸、HF；

传输方式：手动；

清洗工艺：

人工上料→2级纯水溢流清洗工位→酸腐清洗工位→2级纯水溢流清洗工位→泡酸清洗工位→纯水溢流清洗工位→纯水超声清洗工位→煮水清洗工位→人工下料

产品特点：

1、超声波发生器功率强劲、效率高、运行可靠；

2、超声波发生器采用它激式电路，配置国际先进的自动扫频电路，功耗低、消除清洗驻波、使清洗更加均匀彻底；

3、设备整体材质采用PVC材料，整体结构美观，耐酸耐碱，经久耐用；

4、 酸腐槽配抛动功能，上下抛动速度及抛动频率均可调；

5、 酸腐槽特殊结构设计，可以有效避免酸液外流，设冷却系统保证酸液恒温；

6、 泡酸清洗槽设定时功能，用户可根据需求设定泡酸时间；

7、 设备有最低液位报警提示，防止加热管干烧；

8、 配独立的电气控制系统，设有漏电保护、线路保护、电气保护、加热器保护及急停功能等；