太阳能CIGS薄膜镀膜机 沈阳金研

1、设备用途： 采用电子束一步蒸发法用于制备CIGS（铜铟镓硒）薄膜

2.技术数据:

基片尺寸	1100mm×1400mm	基片加热温度	300℃
工作真空度	6.7×10-4Pa

2.1镀膜模式进片室+清洗室+镀膜室+缓冲室+出片室
2.2镀膜室EB蒸发源三个
2.3 EB蒸发源挡板三个
2.4膜厚修正机构二套
2.5控制方式PID可编程控，全自动

3.技术型号：JCIGS-1型