电阻蒸发镀膜机 沈阳金研

1、 设备用途：利用电阻加热产生热能，将待成膜的物质置于真空中进行蒸发或升华，使之在基片表面析出的过程。用于制备各类有机物薄膜、金属膜、导电薄膜、半导体薄膜、光学薄膜等，广泛应用于大专院校、科研机构的科研及小批量的生产。

2.技术数据：

极限真空度（分子泵系统）	7.0×10-5Pa	压升率	≤6.7×10-1Pa/H
真空室尺寸	Ф500×450mm	电阻蒸发源功率	1KW
电阻蒸发源数量	2套，可切换	水冷电极	3套
样品台升降机构尺寸	50×50mm	监控膜厚显示范围	0～99μm

2.1主真空室立式圆筒型真空室，双层水冷
2.2真空系统配置分子泵，机械泵，高真空手动插板阀