Universal-300 新型12英寸CMP设备 天津华海清科机电
Universal-300是我国首台进入大生产线的12”CMP设备，该机型技术含量高、性能稳定，适用于集成电路制造、晶圆基片生产、CMP研磨材料研发和相关的科学研究。
Universal-300设备优势：
1.使用全自动化“干进干出”模式；
2.模块化抛光单元创新设计；
3.各个模块具有独立的控制系统；
4.抛光工艺参数数据实时采集和存储；
5.多种终点控制系统。
Universal-300-B
Universal-300-B是一个独立控制的12”自动CMP抛光单元系统。它沿用了Universal-300机型的成熟技术和功能，具备独特的优势：
·使用自动化“干进湿出”方式；
·12英寸模块化抛光单元创新设计；
·可兼容4”、6”、8”、12”wafer，适用范围广；
·可集成多种终点检测，实现精准工艺控制；
·抛光工艺参数数据实时采集和存储；
·适用于科研院所、实验室、材料研发机构。
天津华海清科机电科技有限公司成立于2013年，是天津市政府与清华大学践行“京津冀一体化”国家战略，为推动我国化学机械抛光（CMP）技术和设备产业化成立的高科技企业。
华海清科主要从事CMP设备和工艺及配套耗材的研发、生产、销售与服务，核心团队成员来自清华大学及业内专业人才，拥有CMP技术专利100余项，产品可广泛应用于极大规模集成电路制造、三维封装、微机电系统制造、晶圆平坦化、基片制造等领域。
华海清科主要从事CMP设备和工艺及配套耗材的研发、生产、销售与服务，核心团队成员来自清华大学及业内专业人才，拥有CMP技术专利100余项，产品可广泛应用于极大规模集成电路制造、三维封装、微机电系统制造、晶圆平坦化、基片制造等领域。
华海清科依靠国际化的经营理念和人才团队、先进的工艺试验条件，致力于为相关领域的企业、高校和科研院所提供先进的CMP设备及工艺的集成解决方案。并遵循“科技服务社会”的公司宗旨，持续进行以优良的品质和卓越的服务赢得国内外用户的信赖
