适用于H₂、 Ar、He、Ne、 Kr、Xe。独家专用技术脱除原料气中的O₂、CO、H₂、N₂、CO₂、H₂O、CH₄、碳氢化合物至PPb级。

※HPC终端OM系列纯化器采用吸气剂（GATTER）为消耗型填料，不可再生（可有限次激活）。吸气反应器设计使用寿命为2~3年，失效后整体更换。用户为减少gatter消耗，可加预处理系统。

产品特点 ：

◆脱除杂质深度高

◆吸附容量大， 使用时间长相比国内现有的纯化工艺，HPC –OM型纯化技术不释放碳氢化合物，常温工作，节能环保。非消耗型纯化材料，降低成本，纯化深度高，使用寿命长。

◆可激活  HPC-M系列所用纯化材料为镍触媒催化剂，非消耗材料，可再生循环使用，成本低。初始调试后直接使用。

◆应用范围广

应用领域：  

MOCVD，MBE（化合物半导体工业）、

SOI(硅晶体生长)、

LED（半导体照明）

IC（大规模集成电路）

PV（光伏太阳能）

气体净化、

光学纤维生产、

惰性气体激光器、

气相色谱仪等

光刻

零点气纯化

高纯度焊接