MOCVD金属有机化合物气相沉积设备
VeecoTurboDisc K475i As/P MOCVD 系统
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单价 10000.00
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品牌 Veeco
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TurboDisc K475i As/P MOCVD 系统

业界最高生产率和最高产量的 As/P MOCVD 系统。

Veeco 全新的 TurboDisc K475i As/P MOCVD 系统是业界用于生产红色、橙色、黄色 (R/O/Y) LED 以及多结 III-V 太阳能电池、激光二极管和晶体管的最佳反应腔。K475i 系统具有运用 Veeco 的 Uniform FlowFlange™ 技术的全新反应腔设计,所生产出的薄膜具有极高的一致性和更理想的晶片内和晶片间重复性,以及业界最低的颗粒生成。Uniform FlowFlange 技术的简单设计可轻松实现快速工艺优化以及维护后的快速工具恢复时间,从而为照明、太阳能、激光二极管、赝配高电子迁移率晶体管 (pHEMT) 和异质结双极型晶体管 (HBT) 等应用提供最高生产率。

  • 全新的 Uniform FlowFlange 技术设计可实现最佳的一致性和工艺重复性,从而带来更高产量
  • 完善的反应腔设计不仅简单易用,而且可加快维护后恢复,从而尽可能增加正常运行时间
  • 全自动运行可带来业界最高的生产率
  • 经实际生产验证的平台可提供最低的拥有成本
Veeco公司称,K475i设备采用了公司的专利TurboDisc和Uniform FlowFlange MOCVD技术,能够生产出具有非常高的均匀性和可重复性的晶片薄膜和晶片基板。每个LED晶片可比其它替代系统减少20%的生产成本,目前业界最低。可帮助客户实现更高的生产效率,优质的收益,并降低运营成本。

  Veeco公司表示,K475i MOCVD系统的专利技术提供快速的流程优化和快速的工具恢复时间,调试之后能够实现卓越的生产效率,用于如照明,显示器,激光二极管,太阳能电池,异质结双极晶体管(HBTs)和假晶高电子迁移率晶体管(pHEMTs)等产品应用。  
                     

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