半导体清洗设备
湿法刻蚀显影机EDC-650-23
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品牌 LAURELL
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一、处理腔体

1、处理腔体大小:EDC-650-23 内径为9.5英寸 (241毫米)的杯型处理腔体;

                         EDC-650-8 内径为12.5英寸 (318毫米)的杯型处理腔体;

                         EDC-650-15 内径为14.6英寸 (371毫米)的杯型处理腔体;

2、处理尺寸范围:EDC-650-23 最大可处理直径6英寸(150毫米)的晶圆片或者5x5英寸(125毫米)的方片;

                          EDC-650-8 最大可处理直径8英寸(203毫米)的晶圆片或者7x7英寸(176毫米)的方片;

                          EDC-650-15 最大可处理直径12英寸(304毫米)的晶圆片或者9x9英寸(229毫米)的方片;

3、样片处理托盘:高性能天然聚丙烯材质非真空式托盘,可承载23英寸及4英寸的晶圆片; 

4、腔体开关盖板:透明ECTFE材质圆顶盖板,便于实时进行可视化操作;

5、腔体材质说明:用特氟龙材质制成的带有联动传感触点的合瓣式舱体;

 

二、数显控制器

1 数显控制器:新一代650型高性能数显控制器,非常方便设定处理速度和加速度程序段,(1-300RPM,重复性:±0.5RPM),可设置顺序循环控制;

2 处理马达:HPD-2高性能无刷式直流马达(DC motor),迷宫式密封件(triple labyrinth seal);

3 控制精度:数显控制器采用高位计数光学编码器输出,高精度密封循环伺服控制器,经美国国家标准研究院NIST认证,实时显示精度控制在设定值的0.006%以内(美国NIST激光测量器件的极限值)。系统无需重复校准!

 

三、分析软件系统

配套分析软件:SPIN3000操作分析软件,自配最先进的PC通讯接口,可添加新的功能指令,可视化操作,在半导体湿制程工艺中,可随时跳跃式修改尚未完成的操作步骤。

功能强大的分析软件:

1、可以为每个进程,每个部件(如制程程序段,阀门,传感器和警报器)具体的命名;

2、可以为每一个操作步骤添加详尽的注释;

3、通过电脑可以轻松实现读写,更改,存储,检索,以及与任何已有的制程进行比对;

4、流程通过形象的图形进行可视化展示;

5、基于Windows操作系统的所见即所得的用户友好的图形操作界面。

 

四、自动滴胶系统

UD-3带倒吸装置的多喷嘴可编程针筒(包含4个不同大小的针头和40个针筒,5毫升&30毫升);

 

五、试剂循环分配系统:

 

试剂控制阀

1、独家专利技术的Teflon®控制阀;

2、可调节式氮气扩压器,Teflon®控制阀;

3、嵌入式构造:适合与其他工艺系统实现无缝衔接;

联系方式
公司:迈可诺技术有限公司
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姓名:赵雷(先生)
职位:销售
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