 产品名称： 石墨烯LPCVD |
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| 应用领域：半导体 |
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| 关 键 字：石墨烯LPCVD |
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| 产品咨询电话：4008-110044 |
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| 产品详细描述： |
石墨烯LPCVD应用：用于石墨烯薄膜生长。
石墨烯LPCVD产品特点：
◆系列生产型：1室、2室、3室（高效周期/连续性生产）
◆高温出炉（高效率）
◆优化的组件：真空干泵、半导体级气路、压力检测控制等
◆悬臂/软着陆,恒温区适应多个舟或其它方式
◆长恒温区、适合更多舟的工艺（大量）
◆自动门，更加完善的安全联锁保护系统
◆自动温区调整
◆工业计算机控制系统：对炉温、压力、流量、阀门等动作自动控制
◆石墨烯层数：一层，方阻、透光性极优
◆衬底：铜箔（板、卷）/PET/PI/石英/硅片
石墨烯LPCVD主要技术指标：
1、工艺温度：300～1100℃/1200℃
2、恒温区及控制精度：1000mm～1200mm
3、极限真空度：～9x10-1Pa
4、工作真空度：10～1000Pa可调
5、控制系统：工业控制计算机系统对炉温、压力流量、舟的位置、阀门状态等进行自动控制
青岛精诚华旗微电子设备有限公司(青岛华旗科技有限公司，建于1993年)，为专业半导体工艺设备及先进材料专用设备研发制造厂家。致力于为半导体集成IC电路分立器件、MEMS、太阳能电池、半导体照明LED及磁性材料厂家提供先进的专用设备，工艺涵盖化合物半导体晶体生长（及提纯、合成等）、外延、薄膜淀积（氮化硅、氧化硅、多晶硅等）、氧化扩散（包括退火合金含工艺及快速退火工艺等）、真空烧结等工艺。半导体工艺设备覆盖三代半导体材料--硅、砷化镓、氮化镓等，高性能磁性材料真空设备（钐钴、钕铁硼等）。同时承担了部分国家863项目（如半导体白光照明GaN生长的HVPE设备等）及相关的国家重点项目等。石墨烯LPCVD产品特点：
◆系列生产型：1室、2室、3室（高效周期/连续性生产）
◆高温出炉（高效率）
◆优化的组件：真空干泵、半导体级气路、压力检测控制等
◆悬臂/软着陆,恒温区适应多个舟或其它方式
◆长恒温区、适合更多舟的工艺（大量）
◆自动门，更加完善的安全联锁保护系统
◆自动温区调整
◆工业计算机控制系统：对炉温、压力、流量、阀门等动作自动控制
◆石墨烯层数：一层，方阻、透光性极优
◆衬底：铜箔（板、卷）/PET/PI/石英/硅片
石墨烯LPCVD主要技术指标：
1、工艺温度：300～1100℃/1200℃
2、恒温区及控制精度：1000mm～1200mm
3、极限真空度：～9x10-1Pa
4、工作真空度：10～1000Pa可调
5、控制系统：工业控制计算机系统对炉温、压力流量、舟的位置、阀门状态等进行自动控制
青岛精诚华旗（“华旗科技”）拥有十几年的专业研发制造经验，产品服务广泛应用于行业内的大专院校科研院所、半导体制造、高性能磁性材料制造的企业工厂等。
青岛精诚华旗（“华旗科技”）拥有精良的科研、设计、制造、服务团队，为中国电子专用设备协会、中国磁性材料与器件协会等多家协会会员单位，承接并出色完成了一系列国家重点项目的专用设备的设计制造。
2006年通过GB/T19001-2008(ISO9001:2008)质量管理体系认证。
