HLI-A型白光干涉垂直扫描表面形貌综合测量仪是基于光学干涉原理，实现超精密加工表面形貌和MEMS、光刻等表面结构的非接触精密测量，帮助表面形貌功能质量评价和工艺分析
1.产品型号：WLI-A
2.产地：中国武汉
3.产品功能：基于光学干涉原理，实现超精密加工表面形貌和MEMS、光刻等表面结构的非接触精密测量，帮助表面形貌功能质量评价和工艺分析。
4.特性参数
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型号 指标 |
HLI-A |
HLI-C |
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放大倍率 |
10╳， 20╳，50╳ |
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垂直分辨率 (nm) |
0.1 |
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垂直范围(mm) |
0.08 |
4mm |
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水平分辨率(um) |
3.0 (10倍)， 1.0 (20倍)，0.5 (50倍) |
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水平范围(mm2) |
2×1.5/10╳，1×0.8 /20╳，0.4×0.3 /50╳ |
20×20 |
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输出标准化参数 |
二维粗糙度参数(ISO25178)：Ra，Rz，Rz，Rmax，Rp，Rq，Rpm，Rvm，R3z ,Wt，Pt，Tpa Ra 三维粗糙度参数(ISO25178)：Sa, Sq, Sp, Sv, Sz, Ssk, Sku, Sal, Str, Sds, Sdq, Sdr, Ssc |
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5.应用实例
（1）H=1.2μm标准单刻线样板测量
（2）Ra=1.732μm标准多刻线样板测量
（3）MEMS结构表面MEME-1测量结果
（4）MEMS结构表面MEME-2测量结果
（5）MEMS结构表面MEME-3测量结果
（6）MEMS结构表面MEME-4测量结果
6.经典应用领域：
（1）质量管理
（2）工艺控制
（3）产品研发
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红星杨科技通过资源整合吸纳了包含高校和研究所在内的高端科研技术资源，为公司远景发展创造了坚实的基础；主营业务包含：精密位移平台、精密运动控制、光学平台、光学调整架、光机系统仪器、作物表型仪器、进口光机产品。红星杨科技将立足于光电产业，坚持高科技、高价值、高效益三大目标，打造实力品牌优势、系统优势和价值优势的知名光电企业。
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