半导体材料腐蚀清洗机
CVD腐蚀清洗台
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        1.品牌:《南轩电子》

2.设备适用:该设备适用于薄晶圆(到80 µm)以及符合 SEMI单晶圆湿法工艺标准的晶圆。 3.设备特点:采用标准的湿法工艺对硅晶圆片进行清洁、去胶、刻蚀和光刻。全电脑自动控制方式,保护脆弱的薄晶圆在工艺流程中不受损毁。

联系方式
公司:北京南轩兴达科技有限公司
状态:离线 发送信件 在线交谈
姓名:杨香叶(先生)
职位:销售
电话:18394011047
手机:18394011047
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地区:中国-北京市
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