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苏州晶淼半导体硅片光刻清洗机设备工作台

1.本设备是光刻清洗台，适用于4-6英寸半导体硅片清洗工艺。

2.整机由机台、操作台面、清洗槽体、温度控制系统，排风、机台照明、电气控制系统等组成。机身包板为德国PP板。瓷白色，整洁美观。

3.共3个槽体,水浴加热槽2个，排水槽1个。  

4. 本半导体硅片光刻清洗机设备的左、右前方各配置PP材料的水qiang、气qiang各2把。

5.PLC控制器。

6.声光提示、报警功能。

7.设备照明：20W封闭日光灯。

8. DIW氮气(N₂₎管路、洁净空气管路、自来水管、药液排放管、排气管路、排水管布局简洁合理。  

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