晶淼湿法金属刻蚀机
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| 单价 | ￥0.00 |
| 库存 | 50件 |
| 品牌 | JM晶淼 |
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湿法蚀刻设备，可广泛用于IC生产和半导体元器件生产中晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除硅片表面的有机物.颗粒.金属杂质.自然氧化层及石英.塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。可用于扩散前、光刻后、CMP后及氧化前等工艺的刻蚀清洗。例如：RCA清洗、SPM清洗、HPM清洗等
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公司:苏州晶淼半导体设备有限公司
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姓名:王**(先生)
电话:13771786452
手机:13771786452
传真:051268639079
地区:中国-江苏省
地址:苏州工业园区金海路34号
邮编:215000
邮件:suzhoujingmiao@126.com
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