品牌:Engis
化合物半导体(GaAs/InP)背面减薄工艺设备
应用领域:GaAs,InP
设备特点:
上蜡后将陶瓷盘放入压片机真空腔内进行压片,并将Wafer不陶瓷盘间隙内空气排空
真空腔内设有硅胶垫,上片均匀性非常理想
配合冷水机使用,缩短上片时间
单价 | ¥0.00 |
库存 | 1件 |
品牌 | Engis |
化合物半导体(GaAs/InP)背面减薄工艺设备
应用领域:GaAs,InP
设备特点:
上蜡后将陶瓷盘放入压片机真空腔内进行压片,并将Wafer不陶瓷盘间隙内空气排空
真空腔内设有硅胶垫,上片均匀性非常理想
配合冷水机使用,缩短上片时间