SENTECH 原子层积淀(ALD)
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单价 | ¥0.00 |
库存 | 1件 |
品牌 | Sentech |
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ALD逐层沉积,在三维形貌沉积中保持高的均匀性,通过工艺过程中分步添加前置物,可以准确的控制膜厚和薄膜特性折射率和消光系数。PE-ALD是一种先进的方法,通过将自由基(radical)的气体样品,而不是水(沉积过程中作为氧化物oxidizer)。
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