恩科优（NXQ）4000系列半⾃自动掩膜对准曝光系统，融合了独立的模块化设计，精准控制对准和曝光等特点。自动程序控制使得该系统易于操作存储和使用，适合实验室多用户使用。该系统以其卓越的性能，经济的价格，深受全球用户喜爱，截止2011年底，超过4000台NXQ光刻机遍布全世界的科研实验室、研发中心和工业生产线。