1) 大幅提高成品率

・微粒去除性能可对应25纳米级装置。

40 個/W (particle size 0.06um)

・2 流体溅射具有很高的尘埃除去性能

・蚀刻的面内均一性良好：2 %以下（氧化膜在希HF处理的情况）

・特にエピ成長前の洗浄に高影響（メタル完全除去、ゴミ極小）

2)  価格 优势

・MTK的价格是大日本、TEL等企業的同样装置价格的一半。

3 ）运 营 成本

・药液循环使用

・纯水消費量：1 Liter/min （one chamber）

3)  設置 面積 小

・2～3 m 2 (2 chamber) (参考 :水槽式： 13m2 )

・1.5～2 m 2 (1 chamber)

4)  臭氧 水 清洗

・ 卓越的尘埃、有机物、金属除去性能（ 臭氧浓度:最大30ppm）