1) 大幅提高成品率
・微粒去除性能可对应25纳米级装置。
40 個/W (particle size 0.06um)
・2 流体溅射具有很高的尘埃除去性能
・蚀刻的面内均一性良好：2 %以下（氧化膜在希HF处理的情况）
・特にエピ成長前の洗浄に高影響（メタル完全除去、ゴミ極小）
2) 価格 优势
・MTK的价格是大日本、TEL等企業的同样装置价格的一半。
3 ）运 营 成本
・药液循环使用
・纯水消費量：1 Liter/min （one chamber）
3) 設置 面積 小
・2～3 m 2 (2 chamber) (参考 :水槽式： 13m2 )
・1.5～2 m 2 (1 chamber)
4) 臭氧 水 清洗
・ 卓越的尘埃、有机物、金属除去性能（ 臭氧浓度:最大30ppm）
・ 使用臭氧水、可省去硫酸、盐酸、双氧水