电子束蒸发系统
用途
• 研发电子束沉积
• 剥离蒸发
• 阴影蒸发
• 光学膜
• 超导体的发展
特点
• 最优化的电子束蒸发工艺
• UHV 兼容设计
• 便于开启的腔室，易于操作的沉积源
• 模块化样品台
• 固态电源电子束源与离子源控制系统
• 控制软件
• 高真空涡轮分子泵
功能选项
· 可升级到低温泵或磁悬浮涡轮泵超高本底真空泵
· 可升级到干式粗抽泵
· 基片旋转，加热，冷却和偏压功能
· 反应气体进气
· 离子源(辅助沉积或刻蚀)
· 可调节的基片与蒸发源距离
· 可升级进样室功能
· 高功率电子束源
· 上游或下游压力控制
磁控溅射设备
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| 单价 | ￥0.00 |
| 库存 | 1000件 |
| 品牌 | KLTC |
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联系方式
公司:科特莱思科（上海）商贸有限公司
状态:离线 发送信件 在线交谈
姓名:Monica(女士)
电话:021 50115900
地区:中国-上海市
地址:中国（上海）自由贸易试验区张衡路1000弄31-32号
邮编:201203
邮件:china@lesker.com
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