半导体材料腐蚀清洗机
刻蚀机
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品牌 CSE
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 酸 碱刻蚀机 04_副本

整机构造

l 骨架:优质不锈钢骨架,外包3mmPP板防腐焊接而成;

l 外壳:德国进口10mm瓷白PP板热焊接而成;

l 防护门:正面操作侧采用透明上下推拉门;

l 管路:管路位于机台下后部,以节省空间,采用英制接口;

l 药液回收区位于设备左后下部;

l 设备2#与3#处有活动推拉挡板;

l 排风:根据流体学原理设计位于机台后上部,并配有导流和风量调节装置;

l 工作照明:机台上方配照明(与工作区隔离);

l DI/N2 GUN:可伸缩的N2 Gun和DI水枪各把,置于右侧;

l 台面板为德国10mm PP板(带有漏液孔);

l 人机界面:Touch Screen彩色界面;
 

苏州华林科纳半导体设备技术有限公司(CSE------www.hlcas.com)由中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所合资成立于2008年3月,投资4500万元。主要从事半导体设备、太阳能光伏设备、液晶湿制程设备、真空设备的研发、技术推广和生产销售。 

苏州华林科纳公司通过与国际上知名公司的广泛合作,目前已形成湿法清洗系统 刻蚀系统CDS系统 尾气处理系统的四大系列数十种型号的产品,广泛用于大规模集成电路、电力电子器件、分立器件、光电子器件、MEMS和太阳能电池等领域,以优质的产品和优良的服务赢得了各界用户的赞许和信赖。

苏州华林科纳于2014年11月份设立了分公司“南通华林科纳半导体设备有限公司(CSE------www.hlkncse.com)”,经营范围半导体清洗设备、太阳能光伏设备组装、生产、设计、研发、销售,以及相关技术推广,自营和代理上述商品及技术的进出口业务。

 

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