热丝CVD金刚石设备...

面议

二氧化硅靶材SiO2...

面议

氮化钛靶材TiN磁控...

面议

石墨靶材碳靶材C磁...

面议

硼靶材B磁控溅射靶...

面议

纯铁靶材Fe氧化铁...

面议

铪靶材Hf氧化铪靶...

面议

氧化铝靶材Al2O3靶...

面议

氮化铝靶材AlN磁控...

面议

8寸晶圆晶圆电镀机

￥2800000.00

硬质氧化膜再生修...

面议

脉冲激光分子束外...

面议

L-系列镀膜设备 西...

面议

S系列40MHz射频加...

￥15000.00

HMDS pretreatment...

面议

silicon wafer HMD...

面议

LED气相成底膜处理...

￥21.00

HMDS预处理系统，H...

￥122.00

团簇型多室CVD沉积...

￥10000.00

​GFC系列高性能全...

￥10000.00