镀源、靶材
高纯镍靶材 Ni靶镀膜溅射靶
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单价 2000.00
物流 顺丰:50.00  
库存 20件
品牌 HC
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高纯镍靶,主要应用于半导体和微电子行业,是半导体背面电极的关键材料。通过反复的塑性加工镍颗粒具有高致密度,高纯度的特性,且晶粒组织大小均匀一致。生产过程的灵活适当调整颗粒的微观结构来达到你想要的效果,镍靶的晶粒大小均匀一致,可以获得均匀的膜层.

产品主要应用于平板显示、触控面板、集成电路、LED芯片、Low-E玻璃、装饰镀膜、工具镀膜、光伏太阳能、光学光通信、光磁存储、电子封装、电动新能源等领域。

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