抛光液/粉
CMP抛光液
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品牌 百特
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CMP抛光液


一.应用领域

  用于单晶硅、多晶硅、蓝宝石、液晶玻璃、镜头等抛光。

 

  二.产品特点

   1.采用严格的粒径控制工艺,具有纯度高、粒径均匀、易清洗、无橘皮、无雾化现象、抛光速率高、损伤层小等优点。

   2.可直接稀释使用,对抛光设备无腐蚀。

 

  三.性能指标

指标名称

型号及标准

CMP30

CMP50

CMP80

CMP100

CMP150

粒径(nm)

20-40

40-60

60-90

100-130

140-170

外观

乳白

SiO2含量(重量)

30~40%

分散介质

pH值

2-11可调

保质期(月)

≥12

 

  四.使用方法

   1.可根据抛光操作条件用去离子水进行稀释。

   2.稀释后,粗抛时调节pH至11左右,精抛时调节pH至9.5左右。pH调节可以用10%的盐酸、醋酸、柠檬酸、KOH或氨水在充分搅拌下慢慢加入。

   3.循环抛光可以用原液。

 

  包装及储存

   1.采用聚乙烯塑料桶包装,主要包装规格有25Kg、250Kg、1000Kg。

   2.避免曝晒,贮存温度为5-40℃低于0℃则产生冻胶而报废。

   3.避免敞口长期与空气接触。

联系方式
公司:山东百特新材料有限公司
状态:离线 发送信件 在线交谈
姓名:徐经理(先生)
电话:0539-7261199
手机:15965490369
地区:中国-山东省
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QQ:2503461792