我公司提供高去除速率、低缺陷铝衬底抛光液，包括酸性AL-1101及碱性AL-1001胶体二氧化硅基抛光液。
产品被广泛用于建筑、包装、手机、电脑外壳等。
【性能指标】
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抛光液型号 |
Al-1101 |
Al-1001 |
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特点 |
高去除速率 |
极佳的腐蚀抑制 |
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极佳的腐蚀抑制 |
高度稳定性 |
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低残留 |
低残留 |
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无划痕 |
无划痕 |
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低金属沾污 |
低金属沾污 |
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pH 2-3 |
pH 9-11 |
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固含量40%；粒径80-110nm |
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可按客户要求在一定范围内定制。
【包装方式】
200L蓝色塑料桶包装，每桶可装250kg; 也可按客户要求包装。
成就客户-----以最快的速度为用户提供最合适的产品。
开拓创新-----开拓进取，在技术、管理和服务等各方面进行创新。
追求卓越-----精益求精，讲究速度和效率
实现价值-----发挥员工能力，实现自身价值。
海新安纳电子科技有限公司成立于2008年7月，是一家专门致力于电子级纳米磨料和抛光液技术开发、生产、销售和服务的高科技企业，由中国科学院上海微系统与信息技术研究所联合中外投资者创办。
公司厂房面积为3400m2 ，其中包括万级和局部百级的净化室，建有先进的电子级磨料和抛光液生产线，拥有完整的磨料和抛光液制备、检测、抛光验证系统，按ISO9000质量体系进行管理，是目前中国技术领先的电子级胶体二氧化硅、蓝宝石抛光液和硅片抛光液供应商，产品质量和技术能力得到了国内外知名公司的认可。
公司注重新产品的开发和质量的提升，与中科院上海微系统所等国内外著名研究机构、国际知名半导体公司共同成立抛光材料联合实验室，形成产、学、研联盟，并承担了国家“十一五”、“十二五”重大专项、863、973、上海市科委重点等项目。
公司拥有一支包括多名国家级专家在内的高学历、高素质、富有创新精神的管理和技术团队。秉承“成就客户、开拓创新、追求卓越、实现价值”的企业宗旨，满怀热诚和激情，为客户提供满意的产品和服务。