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简介
Allalin是一种纳米分辨率光谱仪器,基于一种被称为定量阴极荧光的突破性技术,它将光学显微镜和扫描 电子显微镜(SEM)集成到一个系统中。Allalin允许“不折不扣”的大视场/快速扫描同时获得扫描电镜成像 与高光谱或全色CL图。该系统的构建是为了在不牺牲扫描电镜(SEM)性能的前提下获得最\佳的阴极荧光 性能:光学显微镜和扫描电镜的物镜被周密的整合在一起,使它们的焦平面相互匹配;光学显微镜以亚微 米精度加工,与传统的CL技术相比,具有高数值孔径(N.A.0.71)的消色差、高数值孔径(N.A.0.71)检 测,在大视场(高达300µm)下具有优\越的光子收集效率。因此,定量阴极荧光,其中与仪器相关的工件 可以从本质上排除作为光谱特征或对比度的原因,这使阴极荧光首\次变的可信。
Allalin是为那些需要遵循严格的技术路径和快速获取非\常精\确的光谱信息而设计的, 而这些信息是传统方法无\法\企\及的。 在半导体故障分析、开发和研究中,Allalin的光谱测量能力为快速可靠的缺陷检测和 定位提供了无\与\伦\比的解决方案。经过验证的数据类型包括位错密度、材料成分波 动、应变、掺杂剂类型和浓度的测量;以及其他广泛的应用。 在科学研究中,Allalin能够创建纳米分辨率的光谱图,这使得它成为深\入了解纳米尺 度材料物理特性的终\极\工具。 Allalin拥有一套全\面的功能选项:覆盖紫外-红外波长范围的各种探测器选择、SE检测 器、稳定的低温样品台和高灵敏度的EBIC(电子束感应电流)检测解决方案。
优势:
性能优势 一个高\度精\密集成化的CL-SEM系统
– 将光学收集放在电子柱内
– 对于CL,需要零光学对准
– 在300µm的视野(FOV)范围内最\高的收集效率
– 确保化学发光均匀性和再现性,使系统定量和定 性。定量:在300µm的大FOV(无渐晕)下,光子收 集效率恒定(±1%);在不移动样本的情况下,执行 300µm的图谱:阴极荧光结果可重复且可比较
– 使用近光剂量,减少了对敏\感样品造成光束损坏的可 能性
– 快!单次高光谱CL-map测量时间从18秒到30分钟不 等,而竞\争\对\手是30分钟到数小时
– 同时生成SEM图像和高光谱CL图像,而不会降低电子 探针的尺寸
– Schottky FEG适用于高电流密度:30 pA至300 nA – CL模式下的扫描电镜最\高分辨率:低至3nm
– 直观的用户界面和专\用软件 – 触摸屏控制,具有易于导航的基于上下文的GUI,无 需专家操作工具
– 专\用Attomap高光谱分析软件(见单独的手册)
– 具有低温选项的高精度纳米定位工作台(10 K至室 温)
– 高\通用性:光学集线器,用于在更大的光谱系统中 集成Attolight CL仪器或补充其功能
应用示例 :
– 纳米半导体光学特性
– 晶体缺陷检测和定位(螺型位错、堆垛缺陷、掺杂物 等)
– 纳米级成分波动的测定
– 掺杂计量
– 失效分析
– 纳米光子学
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