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PVA TePla等离子体处理设备/刻蚀系统RIE/
型号：IoN 10V
应用：
倒装清洗
刻蚀钝化层
光刻胶去除
低温灰化
SU-8去除
残胶去除
晶圆封装清洗
晶圆表面预处理
涂层
表面修饰
射频功率：13.56MHz，0-600W（可选0-300W，0-1000W）
载盘尺寸：13‘’（12寸晶圆），9‘’（8寸晶圆）
腔体体积：约7L
工艺气体：标配2路，可扩展至4路。
气体种类：O2，CF4，Ar，C4F8，N2，CH4，N2O，N2，Air等
腔体材质：铝（可选不锈钢）
配备自动压力控制系统
选配：
射频功率：13.56MHz，0-600W（可选0-300W，0-1000W）
载盘尺寸：13‘’（12寸晶圆），9‘’（8寸晶圆）
腔体体积：约7L
工艺气体：标配2路，可扩展至4路。
气体种类：O2，CF4，Ar，C4F8，N2，CH4，N2O，N2，Air等
腔体材质：铝（可选不锈钢）
配备自动压力控制系统
选配：
温控盘（0-80度，或50-200度）
认证：
CE Certified
EN 61010
EN 61326
