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    氮化铝靶材AlN磁控溅射靶材

    应用于半导体行业:

    半导体加工设备-镀膜设备-其他

    产品品牌

    晶迈中科

    规格型号:

    根据客户要求定制

    库       存:

    10

    产       地:

    中国-北京市

    数       量:

    减少 增加

    价       格:

    面议
    交易保障 担保交易 网银支付

    品牌:晶迈中科

    型号:根据客户要求定制

    所属系列:半导体加工设备-镀膜设备-其他

     科研实验专用氮化铝靶材AlN磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料
    产品介绍
          氮化铝(AlN)属类金刚石氮化物、六方晶系,纤锌矿型的晶体结构,无毒,呈白色或灰白色,是共价键化合物,原子晶体。氮化铝应用於光电工程,包括在光学储存介面及电子基质作诱电层,在高的导热性下作晶片载体,以及作军事用途。由于氮化铝压电效应的特性,氮化铝晶体的外延性伸展也用於表面声学波的探测器。
    产品参数
    中文名 氮化铝             沸点 2249
    化学式 AlN                熔点 2200℃
    密度 3.235g/cm3           纯度 99.99%
    支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!! 
    服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!
    产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
    交货周期:现货当天发,常规期货4周内
    适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 
    质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。 
    加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库

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