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    URE-2000/35型紫外光刻机-单面

    应用于半导体行业:

    半导体加工设备-光刻设备-UV光刻机

    产品品牌

    国产-中科院

    库       存:

    1

    产       地:

    全国

    数       量:

    减少 增加

    价       格:

    面议
    交易保障 担保交易 网银支付

    品牌:国产-中科院

    型号:

    所属系列:半导体加工设备-光刻设备-UV光刻机

     

    URE-2000/35型紫外光刻机-单面 
    URE-2000-35 型紫外光刻机-单面


    主要技术指标:

    曝光面积:100mm×100mm

    分辨力:1um(胶厚1.5μm的正胶)

    对准精度:±0.8μm

    最大胶厚:300μm(SU8胶)

    掩模尺寸:2.5 inch、3 inch、4 inch、5 inch

    样片尺寸:直径Ф15mm--Ф100mm、厚度0.1mm--6mm(可扩展为15mm);

    照明均匀性:±4%(Ф100mm 范围)

    汞灯功率:350W(直流)

    掩模相对于样片运动行程:X: ±5mm; Y: ±5mm; θ: ±6°



    技术特点:

    创新采用三柔性支点实现高精度自动调平;真空接触自动曝光;样片升降、调平、接触、曝光、复位实现自动化控制;采用积木错位蝇眼透镜实现高均匀照明;可连续设定分离间隙;采用双目双视场显微镜实现高对准精度。整机具有性能可靠、操作方便、自动化程度高等特点。

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